芯片制程发展到如今的7nm、5nm，很多人第一想到的可能就是光刻机，因为没有这种高端设备就无法生产出更先进的芯片。但这里我想说，芯片制程发展到现在，这里面功劳最大的还是台积电！没有台积电，就可能没有现在的荷兰ASML，也可能没有如今先进的芯片制程！而这一切都得从现有高端光刻机所使用的核心技术说起。在20年多年前，光刻机光源技术被卡在了193nm之上，全球各个光刻机厂商都一直无法突破。当时的光刻机领域老大尼康正在全力研发157nm的光刻光源技术试图突破，但这个方向的技术难度较大，改造成本也相当高。一些厂商并不愿意跟进，或者说正在想办法研发其他技术方案。2002年时台积电的林本坚博士（下图）在这个领域取得了突破，正式提出了浸入式193nm的方案，这个技术可以让光源透过水的折射原理突破原先的193nm光源，从而让光刻光源实现134nm。这一方案正式提出后，被当时已经崭露头角的荷兰ASML所采用，经过一年的努力后他们造出了样机，验证了这一技术的可行性，随后台积电也正式采用ASML这种新研制出来的光刻机，从此荷兰ASML开始了一飞冲天的路程（见下图）。在后续的几年中，ASML得到了当时芯片界大佬的支持（采购设备，直接入股成股东），除了台积电外，还有Intel、三星等厂商。在ASML股价高升之际，这三家曾经不断减持，但即便如此目前Intel仍持有ASML5%的股份，是第三大股东。因此，荷兰ASML能在和日系光刻机厂商竞争中获得胜利，这里面台积电最初的技术方案以及后续的台积电等芯片界大佬资金的支持密不可分。没有这两个先决条件，荷兰ASML是达不到今天这种成就的！而荷兰最初使用的浸入式193nm光刻技术，目前依旧是主流光刻机所使用的技术，我国最新研制即将下线的28nm光刻机还是基于这个技术。Lscssh科技官观点：因此，要说现在出现如此先进的芯片制程，这里面台积电的功不可没！此外，记住一点，仅有光刻机没有真正的代工技术，依旧是制造不出先进制程芯片的。同样的光刻机给中芯和台积电，中芯现有的技术就无法造出7nm芯片。感谢阅读，给点个赞鼓励下呗，欢迎关注【Lscssh科技官】，谢谢~~ 回复 尾鑫鑫用户 芯片制程发展到如今的7nm、5nm，很多人第一想到的可能就是光刻机，因为没有这种高端设备就无法生产出更先进的芯片。但这里我想说，芯片制程发展到现在，这里面功劳最大的还是台积电！没有台积电，就可能没有现在的荷兰ASML，也可能没有如今先进的芯片制程！而这一切都得从现有高端光刻机所使用的核心技术说起。在20年多年前，光刻机光源技术被卡在了193nm之上，全球各个光刻机厂商都一直无法突破。当时的光刻机领域老大尼康正在全力研发157nm的光刻光源技术试图突破，但这个方向的技术难度较大，改造成本也相当高。未经芝士论回据答允无许不得转载本文小内容，否则将视为侵参权一些厂商并不愿意跟进，或者说正在想办法研发其他技术方案。一面法关只意色增术报复，非连列响便历火。2002年时台积电的林本坚博士（下图）在这个领域取得了突破，正式提出了浸入式193nm的方案，这个技术可以让光源透过水的折射原理突破原先的193nm光源，从而让光刻光源实现134nm。这一方案正式提出后，被当时已经崭露头角的荷兰ASML所采用，经过一年的努力后他们造出了样机，验证了这一技术的可行性，随后台积电也正式采用ASML这种新研制出来的光刻机，从此荷兰ASML开始了一飞冲天的路程（见下图）。在后续的几年中，ASML得到了当时芯片界大佬的支持（采购设备，直接入股成股东），除了台积电外，还有Intel、三星等厂商。在ASML股价高升之际，这三家曾经不断减持，但即便如此目前Intel仍持有ASML5%的股份，是第三大股东。个成法理其气先处百海口志切八，整集团何毛细。因此，荷兰ASML能在和日系光刻机厂商竞争中获得胜利，这里面台积电最初的技术方案以及后续的台积电等芯片界大佬资金的支持密不可分。没有这两个先决条件，荷兰ASML是达不到今天这种成就的！而荷兰最初使用的浸入式193nm光刻技术，目前依旧是主流光刻机所使用的技术，我国最新研制即将下线的28nm光刻机还是基于这个技术。Lscssh科技官观点：因此，要说现在出现如此先进的芯片制程，这里面台积电的功不可没！此外，记住一点，仅有光刻机没有真正的代工技术，依旧是制造不出先进制程芯片的。同样的光刻机给中芯和台积电，中芯现有的技术就无法造出7nm芯片。感谢阅读，给点个赞鼓励下呗，欢迎关注【Lscssh科技官】，谢谢~~ 2024-05-16 1楼 回复 (0) 谢楚淇用户 你好，你这个疑问也问到了很多人的心中，就像人们疑问光刻胶的研制一样，没有高端光刻机，光刻胶就毫无用处，也无法制造，没有高端光刻胶，光刻机又怎么工作呢？其实，相辅相成的发展，才是现代半导体产业发展的主要推动力！这里就根据我所知道的回答你的问题：1、芯片发展到7纳米，离开不了光刻机：光刻机是芯片制造环节的关键工具，以现在人们的认知，没有了光刻机，很难制造出高制程的芯片。转载或者引用本内文小内容请注明来源于芝由士回节文答2、现在能够实现7纳米芯片量产的企业只有台积电与三星，台积电对芯片发展的7纳米工艺有首要的推动作用，其后才是三星。3、台积电要想制造7纳米的芯片，就需要7纳米光刻机，这时候，该光刻机并没有，台积电就需要根据自己制造芯片的需求，将一些要求反馈给光刻机的制造商ASML，让ASML进行制造，制造出来后，并不确定成功，那就需要和台积电共同测试，试制一下，看看是否合格，如果不合格，那就继续改进。所以说，芯片发展到现如今的地步，没有高端光刻机是做不到的这一地步的，而如果没有台积电在制程工艺上的创新改进，也是很难做到这一步的，所以说，芯片发展到7纳米是光刻机以及代工厂共同努力的结果。值得一提的是，芯片发展到7纳米，是离开不了光刻机的，而芯片代工厂却不止是台积电一家，比如现在的三星也可以进行7纳米芯片制造。一出者员则至完确，界容王育。另外，高端光刻机是ASML的拿手好戏，不过，ASML之所以能够获得成功，却不仅仅是ASML的努力，这里面就有台积电、三星等企业的支持，可不仅仅是资金上的支持，还有技术上的支持，台积电等代工企业在开发先进制程工艺的时候，需要光刻机，就会把所用到的光刻机的缺点、不足等问题实时的反馈给ASML，甚至是改进建议和方向也会告知ASML，也会利用自身的技术，和ASL共同改进光刻机。之两由果西战增，记市却。因为这时候台积电等企业和ASML是利益的捆绑关系，也是ASML能够发展壮大的主要原因。 2024-05-16 2楼 回复 (0) 任创业用户 我们常说的7nm芯片、14nm芯片，这些都是针对芯片本身的制程来称呼的，而对于光刻机来说，本身其实并没有7nm之类的说法，光刻机的单位是波长，比如DUV光刻机是目前大量应用的先进光刻机，用来生产7nm芯片的DUV光刻机波长是193nm，也就是说193nm的光刻机可以胜任7nm工艺芯片的制造，台积电和三星目前都可以使用这一类光刻机做出7nm芯片。版权归得热芝士回准答它网站或原过作者所有半导体工艺从过去的微米时代进入到如今的7nm和5nm时代，应该是靠着光刻机厂商和芯片代工厂商共同的努力，少了谁都做不到，首先最大的技术难点可能就在光刻机这里，试想一下，如果荷兰ASML无法制造出EUV极紫外光刻机，那么台积电再厉害也无法做出5nm级别的芯片，然而功劳真的都在ASML的光刻机上吗？也未必，因为每一个时代的先进光刻机在研发投入上非常惊人，不是任何一个高科技企业可以做到的，就算ASML的光刻机，也是经过多年的潜心研发，台积电、三星、英特尔等诸多巨头共同出资参与才做出来的，可能目前的EUV光刻机已经是10年前就在研发了。有了先进光刻机的支持，对于台积电这样的芯片代工厂来说，能做出什么样的芯片也要看技术人员的实力了，台积电为什么是目前全球占有率最大的芯片代工厂，原因就是其拥有雄厚的技术积累和人才队伍，芯片制造方面的经验十足，毕竟光刻机有了，设备全了，如果在验证和流片过程中不顺利，技术人员缺乏经验，那么最终的芯片可能也是无法量产的，比如一块晶圆上只有10多个合格芯片，那么显然也是失败的。所以我们目前看到的，能够量产上市的芯片，都是克服了种种困难，达到了足够好的良品率和产能才诞生的，这里面离不开先进光刻机的支持，也离不开代工厂技术能力和研发人员的支持，不过，这里也要说一下芯片设计方，比如华为想要设计一颗5nm工艺的麒麟1020芯片，那么肯定不能一股脑自己干，而想要麒麟1020这颗芯片能够顺利上市，就必须在芯片设计时和台积电工作人员做好沟通，包括如何布线，如何布局都可能影响到芯片的成功量产，当然，期间台积电肯定会严格保密，所以说，一颗芯片的上市是从设计方到代工方等多方的努力才达成的结果。 2024-05-16 3楼 回复 (0) 张靖晗用户 当然是光刻机的功劳，台积电没有7纳米光刻机就造不出7纳米芯片。 2024-05-16 4楼 回复 (0) 人尔用户 14nm以下的芯片制造，目前基本依赖于荷兰ASML的极紫外光刻机，台积电也不例外。不过，随着碳基芯片技术的突破，完全取代硅基芯片成为可能，ASML的风光就成为过去式了。 2024-05-16 5楼 回复 (0) 陆易梦用户 日前，半导体设备大厂荷兰商艾司摩尔 （ASML） 在财报会议上表示，2019 年 ASML 将把极紫外光刻机 （EUV） 的年出货量从 18 台，提升到30 台之后，现有外国媒体报导，晶圆代工龙头台积电将抢下这 30 台 EUV 中过半的 18 台数量，这也将使得台积电在 2019 年第 1 季中可以顺利启动内含 EUV 技术的 7 纳米加强版制程。根据国外媒体 《Electronics Weekly》 引用来自供应链的最新消息表示，台积电将吃下 ASML 在 2019 年 EUV 光刻机 30 台出货量中的 18 台。这也使得台积电在加上先前的 EUV 设备之后，可以在 2019 年第 1 季启动内含 EUV 技术的 7 纳米加强版制程量产，这也将推动 7 纳米在其 2019 年晶圆销售中占比，从 2018 年的 9%，提升到 25% 的规模。1纳米=10的负9次方米，长度单位如同厘米、分米和米一样，是长度的度量单位。是指芯片上晶体管和晶体管之间导线连线的宽度，简称线宽。你可以想象一下7纳米有多微小啊。转载根受或者引用本办文内容请注明打来用源于芝士回答现在的芯片已经进入了7纳米的制程工艺，越来越多厂商已经开始进入7纳米的芯片制程工艺，那么7纳米的芯片为什么，下面就为大家介绍一下7纳米芯片什么意思。动样线文增科况土斯，属。7纳米芯片什么意思1、7nm的数值到底代表了什么，那就是处理器的蚀刻尺寸。简单的讲，就是我们能够把一个单位的电晶体刻在多大尺寸的一块芯片上。手机处理器不同于一般的电脑处理器，一部手机中能够给它留下的尺寸是相当有限的。蚀刻尺寸越小，相同大小的处理器中拥有的计算单元也就越多，性能也就越强；2、同时，先进的蚀刻技术还可以减小晶体管间电阻，让CPU所需的电压降低，从而使驱动它们所需要的功率也大幅度减小，有效降低功耗和发热量。因此，7纳米芯片不仅意味着尺寸面积更小，各方面的表现也会代际提升；于工性些看结意革组角强才，千半习府精存。而你要说的功劳当然是光刻机的主要功劳，没有制作工具的进步，芯片也是进步不了的，当然还有一个功劳那就是芯片设计公司的功劳，比如华为海思公司、苹果公司、联发科等，没有设计就不知道如何加工的，而台积电最大的功劳是把二者的软硬件结合，把产品加工出来的，其实都是大家共同的功劳，并不是哪家的功劳，现在世界经济与技术都需要分工合作，才能创造出来奇迹，美国制裁中国的目的就是让中国退出世界的经济圈，让你发展变缓慢了，也就保住了人家老大的地位。 2024-05-16 6楼 回复 (0) 焦立庆用户 同样一把步枪，特等射手能打1000米的人，而普通士兵最多只能打400米的人，这差距就是操作者的区别 2024-05-16 7楼 回复 (0) 李佳阳用户 当然是光刻机！这是肯定的！如荷兰能在几年前给中国一台光刻机，估计现在已经是没有台积电什么事了！本人虽一点不懂什么叫光刻机，什么叫台积电，但是，有一点是知道的，那就是，光刻机是工具，而台积电是高级加工厂！本人愚见，中国人应该是努力在材料上动脑筋！将现在的晶体半导体，改成其他更容易加工，生产的材料，这样中国人一定可以实现弯道超车！而这个弯道，就是新型材料！更不需要什么光刻机！版权事归芝士回答网保民当站或原作者色所有 2024-05-16 8楼 回复 (0) 赵彦杲用户 没有金刚钻，不揽瓷器活！光刻机如同金刚钻，没有它你手艺再好也无为。 2024-05-16 9楼 回复 (0) 杨益光用户 这就好比是造枪的和射击的。命中率的高低，不仅取决于造枪的，还取决于射击的。曾经有人能够在头发丝上雕刻，这当然取决于他几十年的熟练技术，但也取决于高清放大的显微镜和微雕专用的激光笔。 2024-05-16 10楼 回复 (0)
芯片制程发展到如今的7nm、5nm，很多人第一想到的可能就是光刻机，因为没有这种高端设备就无法生产出更先进的芯片。但这里我想说，芯片制程发展到现在，这里面功劳最大的还是台积电！
没有台积电，就可能没有现在的荷兰ASML，也可能没有如今先进的芯片制程！而这一切都得从现有高端光刻机所使用的核心技术说起。
在20年多年前，光刻机光源技术被卡在了193nm之上，全球各个光刻机厂商都一直无法突破。当时的光刻机领域老大尼康正在全力研发157nm的光刻光源技术试图突破，但这个方向的技术难度较大，改造成本也相当高。
未经芝士论回据答允无许不得转载本文小内容，否则将视为侵参权
一些厂商并不愿意跟进，或者说正在想办法研发其他技术方案。
一面法关只意色增术报复，非连列响便历火。
2002年时台积电的林本坚博士（下图）在这个领域取得了突破，正式提出了浸入式193nm的方案，这个技术可以让光源透过水的折射原理突破原先的193nm光源，从而让光刻光源实现134nm。
这一方案正式提出后，被当时已经崭露头角的荷兰ASML所采用，经过一年的努力后他们造出了样机，验证了这一技术的可行性，随后台积电也正式采用ASML这种新研制出来的光刻机，从此荷兰ASML开始了一飞冲天的路程（见下图）。
在后续的几年中，ASML得到了当时芯片界大佬的支持（采购设备，直接入股成股东），除了台积电外，还有Intel、三星等厂商。在ASML股价高升之际，这三家曾经不断减持，但即便如此目前Intel仍持有ASML5%的股份，是第三大股东。
个成法理其气先处百海口志切八，整集团何毛细。
因此，荷兰ASML能在和日系光刻机厂商竞争中获得胜利，这里面台积电最初的技术方案以及后续的台积电等芯片界大佬资金的支持密不可分。
没有这两个先决条件，荷兰ASML是达不到今天这种成就的！
而荷兰最初使用的浸入式193nm光刻技术，目前依旧是主流光刻机所使用的技术，我国最新研制即将下线的28nm光刻机还是基于这个技术。
Lscssh科技官观点：
因此，要说现在出现如此先进的芯片制程，这里面台积电的功不可没！
此外，记住一点，仅有光刻机没有真正的代工技术，依旧是制造不出先进制程芯片的。同样的光刻机给中芯和台积电，中芯现有的技术就无法造出7nm芯片。
感谢阅读，给点个赞鼓励下呗，欢迎关注【Lscssh科技官】，谢谢~~
你好，你这个疑问也问到了很多人的心中，就像人们疑问光刻胶的研制一样，没有高端光刻机，光刻胶就毫无用处，也无法制造，没有高端光刻胶，光刻机又怎么工作呢？其实，相辅相成的发展，才是现代半导体产业发展的主要推动力！
这里就根据我所知道的回答你的问题：
1、芯片发展到7纳米，离开不了光刻机：光刻机是芯片制造环节的关键工具，以现在人们的认知，没有了光刻机，很难制造出高制程的芯片。
转载或者引用本内文小内容请注明来源于芝由士回节文答
2、现在能够实现7纳米芯片量产的企业只有台积电与三星，台积电对芯片发展的7纳米工艺有首要的推动作用，其后才是三星。
3、台积电要想制造7纳米的芯片，就需要7纳米光刻机，这时候，该光刻机并没有，台积电就需要根据自己制造芯片的需求，将一些要求反馈给光刻机的制造商ASML，让ASML进行制造，制造出来后，并不确定成功，那就需要和台积电共同测试，试制一下，看看是否合格，如果不合格，那就继续改进。
所以说，芯片发展到现如今的地步，没有高端光刻机是做不到的这一地步的，而如果没有台积电在制程工艺上的创新改进，也是很难做到这一步的，所以说，芯片发展到7纳米是光刻机以及代工厂共同努力的结果。
值得一提的是，芯片发展到7纳米，是离开不了光刻机的，而芯片代工厂却不止是台积电一家，比如现在的三星也可以进行7纳米芯片制造。
一出者员则至完确，界容王育。
另外，高端光刻机是ASML的拿手好戏，不过，ASML之所以能够获得成功，却不仅仅是ASML的努力，这里面就有台积电、三星等企业的支持，可不仅仅是资金上的支持，还有技术上的支持，台积电等代工企业在开发先进制程工艺的时候，需要光刻机，就会把所用到的光刻机的缺点、不足等问题实时的反馈给ASML，甚至是改进建议和方向也会告知ASML，也会利用自身的技术，和ASL共同改进光刻机。
之两由果西战增，记市却。
因为这时候台积电等企业和ASML是利益的捆绑关系，也是ASML能够发展壮大的主要原因。
我们常说的7nm芯片、14nm芯片，这些都是针对芯片本身的制程来称呼的，而对于光刻机来说，本身其实并没有7nm之类的说法，光刻机的单位是波长，比如DUV光刻机是目前大量应用的先进光刻机，用来生产7nm芯片的DUV光刻机波长是193nm，也就是说193nm的光刻机可以胜任7nm工艺芯片的制造，台积电和三星目前都可以使用这一类光刻机做出7nm芯片。
版权归得热芝士回准答它网站或原过作者所有
半导体工艺从过去的微米时代进入到如今的7nm和5nm时代，应该是靠着光刻机厂商和芯片代工厂商共同的努力，少了谁都做不到，首先最大的技术难点可能就在光刻机这里，试想一下，如果荷兰ASML无法制造出EUV极紫外光刻机，那么台积电再厉害也无法做出5nm级别的芯片，然而功劳真的都在ASML的光刻机上吗？也未必，因为每一个时代的先进光刻机在研发投入上非常惊人，不是任何一个高科技企业可以做到的，就算ASML的光刻机，也是经过多年的潜心研发，台积电、三星、英特尔等诸多巨头共同出资参与才做出来的，可能目前的EUV光刻机已经是10年前就在研发了。
有了先进光刻机的支持，对于台积电这样的芯片代工厂来说，能做出什么样的芯片也要看技术人员的实力了，台积电为什么是目前全球占有率最大的芯片代工厂，原因就是其拥有雄厚的技术积累和人才队伍，芯片制造方面的经验十足，毕竟光刻机有了，设备全了，如果在验证和流片过程中不顺利，技术人员缺乏经验，那么最终的芯片可能也是无法量产的，比如一块晶圆上只有10多个合格芯片，那么显然也是失败的。
所以我们目前看到的，能够量产上市的芯片，都是克服了种种困难，达到了足够好的良品率和产能才诞生的，这里面离不开先进光刻机的支持，也离不开代工厂技术能力和研发人员的支持，不过，这里也要说一下芯片设计方，比如华为想要设计一颗5nm工艺的麒麟1020芯片，那么肯定不能一股脑自己干，而想要麒麟1020这颗芯片能够顺利上市，就必须在芯片设计时和台积电工作人员做好沟通，包括如何布线，如何布局都可能影响到芯片的成功量产，当然，期间台积电肯定会严格保密，所以说，一颗芯片的上市是从设计方到代工方等多方的努力才达成的结果。
当然是光刻机的功劳，台积电没有7纳米光刻机就造不出7纳米芯片。
14nm以下的芯片制造，目前基本依赖于荷兰ASML的极紫外光刻机，台积电也不例外。不过，随着碳基芯片技术的突破，完全取代硅基芯片成为可能，ASML的风光就成为过去式了。
日前，半导体设备大厂荷兰商艾司摩尔 （ASML） 在财报会议上表示，2019 年 ASML 将把极紫外光刻机 （EUV） 的年出货量从 18 台，提升到30 台之后，现有外国媒体报导，晶圆代工龙头台积电将抢下这 30 台 EUV 中过半的 18 台数量，这也将使得台积电在 2019 年第 1 季中可以顺利启动内含 EUV 技术的 7 纳米加强版制程。
根据国外媒体 《Electronics Weekly》 引用来自供应链的最新消息表示，台积电将吃下 ASML 在 2019 年 EUV 光刻机 30 台出货量中的 18 台。这也使得台积电在加上先前的 EUV 设备之后，可以在 2019 年第 1 季启动内含 EUV 技术的 7 纳米加强版制程量产，这也将推动 7 纳米在其 2019 年晶圆销售中占比，从 2018 年的 9%，提升到 25% 的规模。
1纳米=10的负9次方米，长度单位如同厘米、分米和米一样，是长度的度量单位。是指芯片上晶体管和晶体管之间导线连线的宽度，简称线宽。你可以想象一下7纳米有多微小啊。
转载根受或者引用本办文内容请注明打来用源于芝士回答
现在的芯片已经进入了7纳米的制程工艺，越来越多厂商已经开始进入7纳米的芯片制程工艺，那么7纳米的芯片为什么，下面就为大家介绍一下7纳米芯片什么意思。
动样线文增科况土斯，属。
7纳米芯片什么意思
1、7nm的数值到底代表了什么，那就是处理器的蚀刻尺寸。简单的讲，就是我们能够把一个单位的电晶体刻在多大尺寸的一块芯片上。手机处理器不同于一般的电脑处理器，一部手机中能够给它留下的尺寸是相当有限的。蚀刻尺寸越小，相同大小的处理器中拥有的计算单元也就越多，性能也就越强；
2、同时，先进的蚀刻技术还可以减小晶体管间电阻，让CPU所需的电压降低，从而使驱动它们所需要的功率也大幅度减小，有效降低功耗和发热量。因此，7纳米芯片不仅意味着尺寸面积更小，各方面的表现也会代际提升；
于工性些看结意革组角强才，千半习府精存。
而你要说的功劳当然是光刻机的主要功劳，没有制作工具的进步，芯片也是进步不了的，当然还有一个功劳那就是芯片设计公司的功劳，比如华为海思公司、苹果公司、联发科等，没有设计就不知道如何加工的，而台积电最大的功劳是把二者的软硬件结合，把产品加工出来的，其实都是大家共同的功劳，并不是哪家的功劳，现在世界经济与技术都需要分工合作，才能创造出来奇迹，美国制裁中国的目的就是让中国退出世界的经济圈，让你发展变缓慢了，也就保住了人家老大的地位。
同样一把步枪，特等射手能打1000米的人，而普通士兵最多只能打400米的人，这差距就是操作者的区别
当然是光刻机！这是肯定的！如荷兰能在几年前给中国一台光刻机，估计现在已经是没有台积电什么事了！
本人虽一点不懂什么叫光刻机，什么叫台积电，但是，有一点是知道的，那就是，光刻机是工具，而台积电是高级加工厂！
本人愚见，中国人应该是努力在材料上动脑筋！将现在的晶体半导体，改成其他更容易加工，生产的材料，这样中国人一定可以实现弯道超车！而这个弯道，就是新型材料！更不需要什么光刻机！
版权事归芝士回答网保民当站或原作者色所有
没有金刚钻，不揽瓷器活！光刻机如同金刚钻，没有它你手艺再好也无为。
这就好比是造枪的和射击的。命中率的高低，不仅取决于造枪的，还取决于射击的。
曾经有人能够在头发丝上雕刻，这当然取决于他几十年的熟练技术，但也取决于高清放大的显微镜和微雕专用的激光笔。